光刻机工作原理

【光刻机工作原理】光刻机是半导体制造中的核心设备，用于将电路图案精确转移到硅片上。其工作原理主要包括光源、掩模版、投影系统和曝光控制等关键部分。

光刻过程大致分为：涂胶、对准、曝光、显影四个步骤。光源（如紫外光或极紫外光）通过掩模版照射到涂有光刻胶的硅片上，形成微小的电路结构。

通过这些组件的协同作用，光刻机实现纳米级的电路制造，是芯片生产中不可或缺的一环。

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